北京中天恒遠的小編龍二給您詳細的介紹——集成電路EDI超純水設備清洗方法，幫助廣大用戶朋友更好的了解。

　　集成電路EDI超純水設備主要用在電子制造業中的集成電路芯片生產領域上面，隨著科技的發展，集成電路芯片成為電子產品中不能缺少的配件，在這種電子配件生產的過程中，必須使用超純水作為流程中。

　　電子制造業對超純水的使用量以及對用水質量的要求不低于醫療制藥行業，因為電子產品生產的時候會用到超純水，其用水質量的好壞直接關系著比較終產品質量的好壞，因此電子制造企業絕大多數都會使用電路芯片EDI電除鹽系統對原水進行處理，進而使得原水符合企業用水標準。

　　集成電路EDI超純水設備清洗污垢方法

　　1、倒換電極。可以有效地減輕膜及陰極上的水垢，一般水垢沉積在濃水室陰極表面上，倒換電極后，濃水室、淡水室相應倒換造成水垢的不穩定狀態，因而可以減輕結垢。

　　2、酸洗。是消除沉淀的有效方法，水垢積到一定程度，就需要進行酸洗，酸洗一般采用循環酸洗，濃水，淡水和極水室一次酸洗的方法。

　　3、堿洗。酸洗不能取出有機沉淀物，對于這類污染層可以用堿性食鹽水清洗，使有機物消除，堿洗可以利用酸洗系統進行，一般不另設裝置。

　　4、定期拆洗。采用上述方法不能回復除鹽率時，應把EDI膜堆拆開清洗，重新組裝一般1-1.5年電滲析需要拆洗一次。

　　集成電路芯片EDI電除鹽系統采用的是比較流行的EDI膜塊制水工藝，比較終出水電阻率能夠達到18兆歐以上，與此同時，集成電路EDI電除鹽系統的出水中還不會含有任何的細菌以及微生物，所以使用該種電路芯片EDI電除鹽系統作為供水系統的企業的產品質量一定是符合標準的。

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