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淺析電子半導體用反滲透超純水設備發展前景(圖文)

  北京中天恒遠的小編龍二給您詳細的介紹——電子半導體用反滲透超純水設備發展前景 幫助廣大用戶朋友更好的了解。

  電子半導體用反滲透超純水設備特點

  1、進口零部件組裝,更加耐用。

  2、可以隨時增加膜的數量以增加處理量。

  3、自我保護系統,故障急停。

  4、復合膜擁有更高的分離率和透過率。

  5、水利用高,能產生更多的可飲用水。

  6、體積更小,使用工地面積小。

  7、淡水即可沖洗符合膜。

  8、部件更加耐用,長期無需維修。

  9、電子半導體用超純水設備設計有膜清洗系統用阻垢系統。

  電子半導體用反滲透超純水設備優勢

  EDI超純水裝置性能優勢數不勝數,其能夠連續穩定的制備品質優良的超純水,不會因為樹脂再生而停止運行,設備結構設計相對靠緊,所以其占地非常小,可以為企業節省很多空間,超純水設備在出廠前均需進行裝置調試,所以設備故障幾率較小,日常保養、維修等操作都非常簡單。

  反滲透超純水系統內部還安置有反滲透預脫鹽技術,再次從根本上行保障了設備的出水水質,與此同時,超純水制取設備廢水產出量少,不會對環境造成污染,有非常高的環境效益、經濟效益,其發展前景廣闊。  

反滲透設備

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(責任編輯:李德馨)
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